Индуктивные источники высокоплотной плазмы и их технологические применения Л. А. Сейдман

Индуктивные источники высокоплотной плазмы и их технологические применения скачать fb2

Фрагмент книги

0 скачали
0 прочитали
0 впечатлений






Л. А. Сейдман - Индуктивные источники высокоплотной плазмы и их технологические применения краткое содержание

Тенденции развития современной технологии электронной техники заключаются в увеличении степени интеграции изделий на поверхности подложек, что связано как с увеличением диаметра применяемых в производстве подложек, так и с уменьшением геометрических размеров элементов изделий на их поверхности до 0,01-0,04 мкм. Для технологии изготовления изделий с микро- и наноэлементами использование ВЧ разряда индуктивно связанной плазмы (ICP) как плазмообразующего источника предоставляет большие преимущества. В частности, с его помощью достигают высокую плотность плазмы (10 11 –10 12 см –3 ), минимальный разброс ионов по энергиям (Δei ≤ 5 эВ), относительно низкое рабочее давление (10 –2 ÷ 10 –1 Па) и низкую энергетическую цену иона (30÷80) эВ/ион. Благодаря отсутствию накаливаемых узлов источник ICP обладает большим ресурсом работы с химически активными газами. Особенно важно, что он предоставляет возможность независимого управления энергией и плотностью потока ионов, поступающих на подложку. Успехи в конструировании источников ЮР для целей микроэлектроники побудили разработчиков оборудования применить их и в других отраслях, например в азотировании стальных деталей, обработке полимерных пленок и нанесении специальных покрытий методами PVD и PECVD. За последнее десятилетие источники ICP нашли широкое промышленное применение, о котором появилось большое количество новой информации. Поэтому назрела необходимость составления обзора, цель которого – систематизация основных экспериментальных результатов разработки и применения источников ICP. В книге приведено описание принципов действия, особенностей и преимуществ источников ICP и рассмотрены многочисленные варианты конструкций современных источников ICP Приведены также примеры технологических применений описываемых источников для нанесения тонких пленок: в процессах PVD и PECVD. И кроме того, описано формирование плазмохимическим травлением трехмерных структур в различных материалах и двумерных структур в тонких пленках и связанное с такой обработкой существенное изменение свойств поверхностей различных материалов, в особенности полупроводников. Таким образом, настоящая книга представляет собой подробное справочное руководство по конструкциям и применению источников ICP Книга рассчитана на студентов, аспирантов, конструкторов нового технологического оборудования, использующего источники ICP, и технологов, работающих на таком оборудовании. Конструкторы найдут в ней обзор способов достижения высоких параметров источников ICP, а технологи ознакомятся с широким спектром их применения и полученных с их помощью достижений. Она также будет полезна в качестве учебного пособия для студентов старших курсов и аспирантов соответствующих специализаций.





Доступен ознакомительный фрагмент

Чтобы оставить свою оценку и/или комментарий, Вам нужно войти под своей учетной записью или зарегистрироваться

Другие книги авторавсе книги
Плазменная химико-термическая обработка поверхности стальных деталей
Плазменная химико-термическая обраб...
Получение тонких пленок реактивным магнетронным распылением
Получение тонких пленок реактивным...
Ионно-плазменные процессы в тонкопленочной технологии
Ионно-плазменные процессы в тонкопл...
Упрочнение стальных деталей плазмохимической обработкой
Упрочнение стальных деталей плазмох...
Другие книги жанраТехническая литература
2D Monoelements
2D Monoelements
3D Printing for Energy Applications
3D Printing for Energy Applications

Для правообладателей и по всем вопросам knigism.info@yandex.ru